Środek do czyszczenia płytek tylnych

Środek do czyszczenia płytek tylnych

Backside Wafer Cleaner to specjalistyczne urządzenie do obróbki na mokro, przeznaczone do czyszczenia tylnej części płytek półprzewodnikowych, obsługujące płytki w formacie 6–12 cali. Dostosowany do zaawansowanych procesów pakowania, charakteryzuje się konfiguracją 4-komorową, kompatybilnością z 2 nośnikami SMIF POD/FOUP i kontrolą procesu podstawowego (ogrzewanie, natężenie przepływu, ciśnienie). Przy przepustowości 55–60 płytek na godzinę integruje funkcje bezpieczeństwa (ochrona przed przegrzaniem, wykrywanie nieszczelności) i komunikację SECS/GEM w celu inteligentnej integracji fabryk.
Wyślij zapytanie
Opis

Przegląd produktu

 

Backside Wafer Cleaner to specjalistyczne urządzenie do obróbki na mokro, przeznaczone do czyszczenia tylnej części płytek półprzewodnikowych, obsługujące płytki w formacie 6–12 cali. Dostosowany do zaawansowanych procesów pakowania, charakteryzuje się konfiguracją 4-komorową, kompatybilnością z 2 nośnikami SMIF POD/FOUP i kontrolą procesu podstawowego (ogrzewanie, natężenie przepływu, ciśnienie). Przy przepustowości 55–60 płytek na godzinę integruje funkcje bezpieczeństwa (ochrona przed przegrzaniem, wykrywanie nieszczelności) i komunikację SECS/GEM w celu inteligentnej integracji fabryk.

 

Zalety

 

Kompatybilność z szeroką gamą płytek:

Obsługuje płytki o średnicy 6–12 cali, dostosowując się do różnorodnych zaawansowanych potrzeb w zakresie pakowania.

01

Stabilna wydajność procesu:

Kontroluje wypaczenia wafli w zakresie ± 10 mm, zapewniając spójność przerzedzonych wafli.

02

Wydajna przepustowość:

Dostarcza 55–60 wafli na godzinę, równoważąc prędkość i jakość czyszczenia.

03

Elastyczny i bezpieczny:

Opcjonalna ochrona chemiczna/tylna DICO2; obejmuje sklasyfikowany drenaż i monitorowanie bezpieczeństwa.

04

Integracja fabryczna:

Pełna obsługa SECS/GEM dla bezproblemowego połączenia z systemami MES.

05

 

Aplikacje

 

01/

Pole docelowe:Zaawansowane opakowania półprzewodników.

02/

Proces podstawowy:Czyszczenie tylnej strony wafli po rozcieńczeniu (usuwa pozostałości po procesach rozcieńczania w celu zapewnienia niezawodności opakowania).

 

Parametry

 

Specyfikacja

Bliższe dane

Rozmiar wafla

6-12 cali

Tolerancja wypaczenia płytki

Mniejsze lub równe ±10 mm

Przepustowość (WPH)

55-60 wafli/godz

Kancelaria

4 komory

Zgodność przewoźnika

2 POD/FOUP SMIF

Obsługiwane chemikalia

DICO2 (opcjonalnie ochrona tyłu)

Funkcje kontroli procesu

Sterowanie ogrzewaniem, sterowanie natężeniem przepływu, sterowanie ciśnieniem

Funkcje bezpieczeństwa

Zabezpieczenie wanny przed przegrzaniem, wykrywanie wycieków, sklasyfikowane
drenaż

Protokół komunikacyjny

SECS/KLEJN

Docelowe pole aplikacji

Zaawansowane opakowanie

 

Często zadawane pytania

 

Jakie rozmiary płytek obsługuje ten środek do czyszczenia pleców?

Jest kompatybilny z płytkami o średnicy 6–12 cali i obsługuje popularne formaty w zaawansowanych opakowaniach.

Jakie jest maksymalne wypaczenie płytki, jakie może wytrzymać?

Obsługuje wafle z wypaczeniami mniejszymi lub równymi ± 10 mm, odpowiednie do cienkich wafli w procesach pakowania.

Jak duża jest przepustowość tego urządzenia?

Może przetwarzać 55–60 płytek na godzinę, równoważąc wydajność i jakość czyszczenia.

Z jakimi przewoźnikami współpracuje?

Obsługuje 2 nośniki SMIF POD/FOUP, dopasowując się do standardowych, fabrycznych systemów logistycznych.

Jakiej chemii używa i czy dostępna jest ochrona tyłka?

Wykorzystuje DICO2 (dostępna jest opcjonalna konfiguracja ochrony tylnej).

Czy można go podłączyć do systemu MES naszej fabryki?

Tak-pełna obsługa protokołu komunikacyjnego SECS/GEM umożliwia bezproblemową integrację z MES.

Jakie funkcje bezpieczeństwa posiada?

Obejmuje ochronę przed przegrzaniem wanny, wykrywanie nieszczelności i odprowadzanie sklasyfikowanych ścieków.

 

Popularne Tagi: środek do czyszczenia wafli z tyłu, Chiny producenci i dostawcy środków do czyszczenia wafli z tyłu

Wyślij zapytanie