Przegląd produktu

System litografii Nano 3D to zaawansowane platformy mikro-stereolitografii (PμSL) oparte na projekcji, przeznaczone do wytwarzania przyrostowego w skali mikro- i nano-.

Wykorzystując systemy optyczne-klasy litograficznej i technologię bezpośredniego-bezmaskowego zapisu, seria Ploceus osiąga wiodącą w branży-rozdzielczość aż do1 μm, umożliwiając wytwarzanie złożonych mikrostruktur o-wysokiej-proporcji, urządzeń wielo-materiałowych i komponentów ceramicznych z wyjątkową dokładnością wymiarową.

Seria obejmuje wiele poziomów precyzji, aby spełnić różnorodne wymagania badawcze i przemysłowe:

LSS-20– Precyzja standardowa (20 μm)

LSS-10 /– Wysoka precyzja (10 μm)

LSS-05– Zaawansowana mikroprecyzja (5 μm)

LSS-02– Ultra precyzja (2 μm)

LSS-01-DL/LSS-01-TL– Wielosoczewkowe systemy wyrównywania-(do 1 μm)

Dzięki modułowym opcjom konfiguracji, przełączaniu wielu-rozdzielczości i możliwościom dopasowania wizualnego seria Ploceus obsługuje zarówno szybkie prototypowanie, jak i-precyzyjną mikrofabrykację.

Zalety

① Bardzo-wysoka dokładność litografii

Rozdzielczość od20 μm do 1 μm

Tolerancja wymiarowa już od ±3 μm

Produkcja konstrukcji o wysokim współczynniku proporcji

② Przełączanie wielu-rozdzielczości

Szybkie przełączanie pomiędzy 1 μm / 2 μm / 5 μm / 10 μm / 20 μm

Jedna platforma dla różnych wymagań dotyczących precyzji

③ Zgodność-z wieloma materiałami

Żywica

Żywica biokompatybilna

Hydrożel (np. GelMA)

Zawiesina ceramiczna z tlenku glinu

Żywica konstrukcyjna-wysokotemperaturowa

④ Dopasowanie wizualne i przetwarzanie WYSIWYG

Monitorowanie optyczne-w czasie rzeczywistym

Automatyczne poziomowanie i ustawianie ostrości

Niejednorodne wyrównanie wielu-materiałów

Dokładność wyrównania nakładki do 2,5 μm

⑤ Szybkie-drukowanie

5–50 razy szybciej niż tradycyjne narzędzia do mikrofabrykacji

Nadaje się zarówno do prototypowania, jak i produkcji seryjnej

⑥ Modułowy i elastyczny system kadzi

Mini kadź (15 ml) do wywoływania materiału

Duża kadź do produkcji seryjnej

Moduł drukowania-w wysokiej temperaturze

Automatyczny system usuwania-pęcherzyków

Aplikacje

Biomedycyna i nauki przyrodnicze

· Chipy mikroprzepływowe

· Organoid-na-platformach-chipów

· Zestawy mikroigieł (pełne i puste)

· Rusztowania inżynierii tkankowej

· Systemy dostarczania leków

· Formy wzorcowe PDMS

Zaawansowane materiały i metamateriały

Struktury kratowe ceramiczne

Metamateriały gradientowe

Potrójnie okresowa minimalna powierzchnia (TPMS)

Metamateriały mechaniczne

Porowate rusztowania ceramiczne

Mikro-urządzenia mechaniczne i funkcjonalne

· Mikroprzekładnie

· Mikrozłącza

· Metapowierzchnie optyczne

· Mikro-sprężyny

· Mikrostruktury funkcjonalne

Parametry

Model	Dokładność litografii	Minimalna grubość warstwy	Tolerancja druku	Maksymalny rozmiar wydruku	System soczewek
LSS-20	20 μm	5 μm	±50 μm	38×21×50 mm	Pojedynczy obiektyw
LSS-10	10 μm	5 μm	±20–25 μm	50×50×50 mm	Pojedynczy obiektyw
LSS-05	5 μm	3 μm	±10 μm	50×50×50 mm	Pojedynczy obiektyw
LSS-02	2 μm	3 μm	±5 μm	50×50×50 mm	Podwójny obiektyw
LSS-01-DL	2 μm	3 μm	±5 μm	50×50×50 mm	Podwójny obiektyw (wyrównanie)
LSS-01-TL	1 μm	3 μm	±3 μm	50×50×50 mm	Potrójny obiektyw (ustawienie)

Często zadawane pytania

P: 1. Z jakiej technologii korzysta ten system?

O: System opiera się na technologii mikro-stereolitografii projekcyjnej (PμSL) i technologii litografii z bezpośrednim-zapisem bez maski, umożliwiając wysoce{{2}precyzyjne wytwarzanie obiektów 3D w skali mikro/nano-.

P: 2. Jaka jest najwyższa dostępna rozdzielczość?

Odp.: W zależności od modelu dokładność litografii waha się od:
20 μm
10 μm
5 μm
2 μm
do 1 μm (PL-3D-PT)

P: 3. Jakie materiały są obsługiwane?

Odp.: System obsługuje szeroką gamę materiałów, w tym:
Żywice funkcjonalne
Żywice biokompatybilne
Żywice inżynieryjne-wysokotemperaturowe
Hydrożel (np. GelMA)
Zawiesina ceramiczna z tlenku glinu
Niestandardowa kompatybilność materiałowa jest dostępna na żądanie.

P: 4. Czy może drukować struktury ceramiczne?

O: Tak. Wybrane modele obsługują drukowanie na zawiesinie ceramicznej, umożliwiając wytwarzanie porowatych rusztowań ceramicznych, struktur siatkowych i metamateriałów.

P: 5. Czy system obsługuje drukowanie-z wielu materiałów?

O: Tak. Zaawansowane modele (PL-3D-PD / PL-3D-PT) obsługują drukowanie z heterogenicznym wyrównaniem wielu materiałów z dokładnością wyrównania nakładki do 2,5 μm.

P: 6. Jakie formaty plików są obsługiwane?

Odp.: System obsługuje format STL do wprowadzania modeli 3D.

P: 7. Jaki jest maksymalny rozmiar wydruku?

Odp.: W zależności od modelu obsługiwany rozmiar wydruku może wynosić do:
50 mm × 50 mm × 50 mm
Dostępne są niestandardowe konfiguracje kadzi.

P: 8. Dla jakich branż jest odpowiedni ten system?

Odp.: Typowe zastosowania obejmują:
Produkcja chipów mikroprzepływowych
Zestawy mikroigieł
Rusztowania inżynierii tkankowej
Metamateriały
Metapowierzchnie
Mikro-urządzenia mechaniczne
Jest szeroko stosowany w badaniach biomedycznych, zaawansowanych materiałach i dziedzinach mikrofabrykacji.

P: 9. Jakie są wymagania instalacyjne?

Odp.: Temperatura: 20–40 stopni
Wilgotność: wilgotność względna < 60%
Standardowe środowisko laboratoryjne
Do podstawowej obsługi nie jest wymagane pomieszczenie czyste (w zależności od potrzeb aplikacji).

P: 10. Jak wypada w porównaniu z konwencjonalnymi drukarkami 3D SLA lub DLP?

Odp.: System Ploceus oferuje:
Dokładność optyczna klasy litograficznej
Rozdzielczość na poziomie mikronów- (1–5 μm)
Wyższa stabilność wymiarowa
Możliwość wyrównywania wielu-materiałów
Jest przeznaczony raczej do wytwarzania mikro/nano niż ogólnego prototypowania.

Popularne Tagi: system do litografii nano 3D, Chiny producenci i dostawcy systemów do litografii nano 3D